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匀胶显影机

匀胶显影机

简要描述:
SC200-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。

更新时间:2021-12-08

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SC200-DE匀胶显影机介绍   

SC200-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。   不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观;工业级别400瓦伺服电机系统,采用与track设备相同设计和程序,使您的工艺更具有实际应用意义;同类产品中的zui大达到50000RPM/S的旋转加速度,确保匀胶和显影的稳定性和*的可重复性。 主要性能指标: 主机机箱采用不锈钢材料(抗化学腐蚀易清洁) 旋涂程序:zui多可存100组程序,每组100步,每个步骤可精确到0.1秒 转动速度:0-5,000rpm(更高速可选) 旋涂加速度:0-10,000rpm/sec(空载) 马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm 转速调节精度<1rpm,重复性< 1rpm 工艺时间设定: 0-3,000 sec/step,时间设置精度:0.1sec 支持wafer尺寸1cm-300mm(12“圆晶) 标准配置两路喷液系统(显影液和去离子水) 产品特性优点: 主机在SC200-SE匀胶机上升级,增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖 全程序编辑功能,更方便的智能化操作,更好的显影/清洗效果 可实现zui多独立四路喷液用于显影/清洗工作,或进行氮气吹干 控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作,使用更加方便 显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择,视要求进行配置 提供客户定制化的显影系统配置和工装设计 高可靠性和重复性,高转速精度和更高转速可选 可添加去边胶和背胶清洗功能

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